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PVD基本方法：真空蒸镀、溅镀 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。
PVD 技术是目前国际上科技含量高且被广泛应用的离子镀膜技术，它具有 镀膜层致密均匀、附着力强、镀性好、沉积速度快、处理温度低、可镀材料广泛等特点（此章节主要阐述PVD 技术在不锈钢及铜料表面电镀加硬膜HC 的应用），是表面处理工程优先域较佳的选择。
PVD 本身镀膜过程是高温状态下，等离子场下的辉光反应，亦是一个高净化处理过程；镀层的主要原材料是以钛金属为主，钛是金属中比较与人体皮肤具亲和性能的，使得PVD 产品本身具备纯净的环保性能。
PVD 可以做出成千上万种颜色，甚至可以说自然界有的颜色，差不多都可以用PVD的方法做出来。如金色系列：欧洲金（2N18 及1N14）、日本金（GY01）、中国金（GY2N） 等；咖啡系列：深咖、浅咖、中咖等；黑色系列：枪色、灰色、超黑色等；时尚系列：太空色、香摈色、卡其色等。。。
一般的电镀（冷镀）也就是指水镀，是比较常见的电镀方式，是一个电化学的过程，利用正负电极，加以电流在镀槽中进行，镀金，镀银，镀镍，镀铬，镀镉等，电镀液污染很大。水镀还要分为电镀和化学镀两种，电镀一般作为装饰性表面，因为有高亮度，化学镀的表面比较灰暗，一般作为防腐蚀涂层。电镀时,镀层金属做阳极,被氧化成阳离子进入电镀液；待镀的金属制品做阴极,镀层金属的阳离子在金属表面被还原形成镀层.为排除其它阳离子的干扰,且使镀层均匀、牢固,需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液,以保持镀层金属阳离子的浓度不变。
真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层。
真空蒸镀法是在高真空下为金属加热，使其熔融、蒸发，冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法,镀层厚度为0.8-1.2um。将成形品表面的微小凹凸部分填平，以获得如镜面一样的表面，无任是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀，还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时，都必须进行底面涂布处理。
溅镀通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法。该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气（Ar），并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电（glow discharge）产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑胶基材上。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀。
离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。
涂镀
涂镀，又称为刷镀或无槽电镀，是在金属工件表面局部快速电化学沉积金属的技术，其在原理和本质都属于电化学加工中电镀工艺的范筹。是和电解相反，利用电镀液中金属离子在电场的作用下，镀覆沉积到阴极上去的加工过程。